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 High molecular weight block copolymer lithography for nanofabrication of hard mask and photonic nanostructures 相关领域
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期刊：Journal of Colloid and Interface Science 作者：Sozaraj Rasappa; Hanna Hulkkonen; Lars Schulte; Sokol Ndoni; Jarno Reuna; et al 出版日期：2019 |
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