| 标题 |
One-step oxidation of benzene to phenol with H3PW12O40 under photoirradiation: Effect of operating conditions |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Chemical Engineering Journal 作者:Ziru Wang; Hajime Hojo; Hisahiro Einaga 出版日期:2022 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)