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标题
Bias stress and humidity exposure of amorphous InGaZnO thin-film transistors with atomic layer deposited Al 2 O 3 passivation using dimethylaluminum hydride at 200 °C
网址
https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6463/ab6e97
DOI
10.1088/1361-6463/ab6e97 doi
其它 期刊：Journal of Physics D: Applied Physics
作者：Dianne C Corsino; Juan Paolo S Bermundo; Mami N Fujii; Kiyoshi Takahashi; Yasuaki Ishikawa; Yukiharu Uraoka
出版日期：2020-01-23
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sunrise 在 2026-06-01 19:57:44 发布自宁夏，悬赏 10 积分
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