Structural and Fluorine Plasma Etching Behavior of Sputter-Deposition Yttrium Fluoride Film

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标题	Structural and Fluorine Plasma Etching Behavior of Sputter-Deposition Yttrium Fluoride Film 溅射沉积氟化钇薄膜的结构和氟等离子体刻蚀行为相关领域材料科学氟化物氟钇沉积（地质）等离子体溅射沉积蚀刻（微加工）溅射等离子体刻蚀薄膜无机化学化学工程纳米技术冶金化学氧化物地质学工程类古生物学物理量子力学图层（电子）沉积物
网址	https://www.mdpi.com/2079-4991/8/11/936/pdf?version=15423669...
DOI	10.3390/nano8110936 doi
其它	期刊：Nanomaterials 作者：Weikai Wang; Yu-Xiu Lin; Yi-Jie Xu 出版日期：2018-11-14
求助人	鲤鱼紫易在 2025-01-10 10:34:11 发布自湖南，悬赏 10 积分
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