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标题
Growth and characterization of Ta-doped Ga2O3 films deposited by magnetron sputtering
磁控溅射Ta掺杂Ga2O3薄膜的生长与表征
相关领域
材料科学 X射线光电子能谱 兴奋剂 溅射沉积 溅射 基质（水族馆） 电阻率和电导率 图层（电子） 分析化学（期刊） 石英 光电子学 薄膜 化学工程 复合材料 纳米技术 色谱法 海洋学 化学 电气工程 地质学 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2021.106040
DOI
10.1016/j.mssp.2021.106040 doi
其它 期刊：Materials Science in Semiconductor Processing
作者：Yi Shang; Ke Tang; Zhuorui Chen; Zhiluo Zhang; Jie Deng; et al
出版日期：2021-06-30
求助人
笨笨金毛 在 2025-06-20 11:27:58 发布，悬赏 10 积分
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