Reactivity between Ti and N2C2H2 mixed gas on Ti(C, N) film deposition by arc-like plasma-enhanced ion plating

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标题	Reactivity between Ti and N2C2H2 mixed gas on Ti(C, N) film deposition by arc-like plasma-enhanced ion plating 类弧等离子体增强离子镀Ti（C，N）膜上Ti与N2~C2H2混合气体的反应性相关领域离子镀反应性（心理学）离子沉积（地质）弧（几何）等离子体化学分析化学（期刊）材料科学无机化学薄膜纳米技术有机化学物理几何学替代医学古生物学病理沉积物生物医学量子力学数学
网址	https://doi.org/10.1016/0040-6090(93)90616-w
DOI	10.1016/0040-6090(93)90616-w doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：H. Kajioka; Kenji Higuchi; Yasushi Kawashimo 出版日期：1993-05-01
求助人	粗暴的冰菱在 2025-04-23 09:28:44 发布自天津，悬赏 10 积分
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