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Highly selective silicon etch for high-NA EUV patterning |
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期刊:Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XV 作者:Sonam D. Sherpa; Rudy Wotjecki; Zihao Ding; Alvaro Garcia de Gorordo; Zhimin Jiang; et al 出版日期:2026-04-10 |
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(2025-6-4)