Design and implementation of the next generation electron beam resists for the production of EUVL photomasks

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标题	Design and implementation of the next generation electron beam resists for the production of EUVL photomasks
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.2501808
DOI	10.1117/12.2501808 doi
其它	期刊：Photomask Technology 2018 作者：Scott Lewis; Guy DeRose; Matthew Hunt; Axel Scherer; Stephen Yeates; et al 出版日期：2018-10-03
求助人	樊珩在 2026-08-10 01:18:13 发布自上海，悬赏 20 积分
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