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p-type layer formation study for Ga2O3 by employing Ni ion implantation with two-step oxygen plasma and thermal annealing |
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:Naohiro Shimizu; Arun Kumar Dhasiyan; Osamu Oda; Nobuyuki Ikarashi; Masaru Hori 出版日期:2025-08-11 |
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(2025-6-4)