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Back-Gate Effect Mechanism and Mitigation in High-Voltage Thick-Layer SOI pLDMOS Using a Field Plate-Bulk Dual Depletion Structure
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DOI
10.1109/ted.2026.3714753 doi
其它 期刊:IEEE Transactions on Electron Devices
作者:Ying Xiang; Teng Liu; Nailong He; Yujing Fu; Jingchuan Zhao; et al
出版日期:2026-01-01
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英俊青枫 在 2026-08-21 10:15:57 发布自浙江,悬赏 10 积分
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