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Investigation of the time dependent gate dielectric stability in SiC MOSFETs with planar and trench gate structures
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随时间变化的栅氧化层击穿 材料科学 栅氧化层 栅极电介质 光电子学 沟槽 MOSFET 介电强度 碳化硅 平面的 金属浇口 负偏压温度不稳定性 电介质 电气工程 电压 纳米技术 工程类 复合材料 晶体管 计算机科学 计算机图形学(图像) 图层(电子)
网址
DOI
10.1016/j.microrel.2023.115141 doi
其它 期刊:Microelectronics Reliability
作者:Wei‐Cheng Lin; Wei-Chen Yu; Bang-Ren Chen; Yu‐Sheng Hsiao; Zhen-Hong Huang; et al
出版日期:2023-10-01
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翟肇永 在 2025-09-24 20:45:10 发布自天津,悬赏 10 积分
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