随时间变化的栅氧化层击穿
材料科学
栅氧化层
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MOSFET
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复合材料
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计算机科学
计算机图形学(图像)
图层(电子)
作者
Wei‐Cheng Lin,Wei-Chen Yu,Bang-Ren Chen,Yu‐Sheng Hsiao,Zhen-Hong Huang,Chia-Lung Hung,Yi‐Kai Hsiao,Nai-Jen Yeh,Hao‐Chung Kuo,Chang‐Ching Tu,Tian‐Li Wu
标识
DOI:10.1016/j.microrel.2023.115141
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