A comparative study of CF 4 , Cl 2 and HBr + Ar inductively coupled plasmas for dry etching applications

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标题	A comparative study of CF 4 , Cl 2 and HBr + Ar inductively coupled plasmas for dry etching applications CF4、Cl2和HBr+Ar电感耦合等离子体干法刻蚀的比较研究
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2017.03.035
DOI	10.1016/j.tsf.2017.03.035 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Alexander Efremov; Junmyung Lee; Kwang-Ho Kwon 出版日期：2017
求助人	gooster 在 2025-09-25 08:49:29 发布自上海，悬赏 10 积分
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