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Impact of EUV resist thickness on local critical dimension uniformities for <30 nm CD via patterning
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网址
https://doi.org/10.1117/12.2551606
DOI
10.1117/12.2551606 doi
其它 期刊：
作者：Benjamin Vincent; Mark J. Maslow; Joost Bekaert; Ming Mao; Joseph Ervin
出版日期：2020-03-23
求助人
无私代容 在 2025-10-27 11:02:36 发布自云南，悬赏 20 积分
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