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  Long-term stability of low-temperature deposited Cat-CVD SiN x thin film against damp-heat stress 低温沉积Cat-CVD SiN x薄膜对湿热应力的长期稳定性
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Huynh Thi Cam Tu; Keisuke Ohdaira 出版日期：2023-09-28 |
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