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标题
Structure and Photoelectric Performance of Al-Doped Copper Nitride Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering
磁控溅射制备Al掺杂氮化铜薄膜的结构和光电性能
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DOI
10.13922/j.cnki.cjvst.202107010 doi
求助人
薛定谔的猫 在 2025-08-20 14:04:40 发布自浙江,悬赏 10 积分
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