A Novel Method For Molybdenum Etching Using a Combination of Surface Oxidation By Ozone-Gas-Bake and Wet Selective Removal for Future Semiconductor Devices

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标题	A Novel Method For Molybdenum Etching Using a Combination of Surface Oxidation By Ozone-Gas-Bake and Wet Selective Removal for Future Semiconductor Devices
网址	https://doi.org/10.1149/10804.0167ecst
DOI	10.1149/10804.0167ecst doi
其它	期刊：ECS Transactions 作者：Teppei Nakano; Antoine Pacco; Shota Iwahata; Efrain Altamirano; Akihisa Iwasaki 出版日期：2022
求助人	YJYLU 在 2026-04-12 16:52:27 发布自湖北，悬赏 10 积分
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