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标题
How to prevent a runaway chemical reaction in the isotropic etching of silicon with HF/HNO 3 /CH 3 COOH or HNA solution
网址
https://doi.org/10.1117/12.522944
DOI
10.1117/12.522944 doi
其它 期刊：Device and Process Technologies for MEMS, Microelectronics, and Photonics III
作者：Jung-Chih Chiao; Wing C. Hui; Alex J. Hariz; David N. Jamieson; Giacinta Parish; Vijay K. Varadan
出版日期：2004
求助人
背后妙旋 在 2026-03-17 15:51:23 发布自江苏，悬赏 20 积分
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