标题 |
Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition
相关领域
微观结构
多孔性
电介质
材料科学
离子
反应离子刻蚀
蚀刻(微加工)
等离子体
化学成分
化学工程
等离子体刻蚀
分析化学(期刊)
矿物学
化学
纳米技术
复合材料
环境化学
光电子学
有机化学
图层(电子)
工程类
物理
量子力学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Microporous and Mesoporous Materials 作者:Matthieu Lépinay; Daniel J. Lee; Riccardo Scarazzini; Michel Bardet; Marc Veillerot; et al 出版日期:2016-07-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|