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 In-depth feasibility study of extreme ultraviolet damascene extension: Patterning, dielectric etch, and metallization 相关领域
铜互连
极紫外光刻
生产线后端
材料科学
光电子学
多重图案
抵抗
互连
沟槽
电介质
化学机械平面化
极端紫外线
低介电常数
蚀刻（微加工）
纳米技术
光学
计算机科学
图层（电子）
电信
激光器
物理
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B 作者：Xinghua Sun; Yann Mignot; Christopher R. Cole; Eric Zhi Feng Liu; Daniel Assis Santos; et al 出版日期：2022-03-01 |
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(2025-6-4)
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