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标题
Nonlinear behaviors in back-gate effects of FDSOI MOSFETs at cryogenic temperatures
低温下FDSOI MOSFET背栅效应的非线性行为
相关领域
绝缘体上的硅 低温 光电子学 材料科学 非线性系统 栅氧化层 线性 栅极电压 电压 凝聚态物理 硅 电气工程 物理 工程类 晶体管 量子力学 复合材料
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6641/ad5e17
DOI
10.1088/1361-6641/ad5e17 doi
其它 期刊：Semiconductor Science and Technology
作者：Yibo Hu; Zhipeng Ren; Yizhe Yin; Jing Chen
出版日期：2024-07-12
求助人
huangtao 在 2025-08-29 10:00:18 发布，悬赏 10 积分
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