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Thickness dependent integrity of gate oxide on SOI

随时间变化的栅氧化层击穿 绝缘体上的硅 薄脆饼 栅氧化层 材料科学 氧化物 光电子学 介电强度 栅极电介质 电介质 硅 电子工程 电气工程 电压 晶体管 工程类 冶金
作者
Mikio Tsujiuchi,T. Iwamatsu,Hideki Naruoka,Hiroshi Umeda,T. Ippōshi,Shigeto Maegawa,Yasuo Inoue
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier]
日期：2003-05-12 卷期号：216 (1-4): 329-333 被引量：1
标识
DOI：10.1016/s0169-4332(03)00419-7
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