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![]() 氩离子能量对单晶硅主要截面表面粗糙度影响的研究
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期刊:Technical Physics 作者:M. S. Mikhailenko; А. Е. Пестов; A. K. Chernyshev; М. V. Zorina; Н. И. Чхало; et al 出版日期:2024-03-01 |
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