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标题
Technology Computer‐Aided Design Model for SiGe Oxidation and Ge Diffusion Along Oxide/SiGe Interfaces
SiGe氧化和Ge沿氧化物/SiGe界面扩散的技术计算机辅助设计模型
相关领域
氧化物 扩散 硅锗 材料科学 光电子学 工程物理 纳米技术 硅 工程类 物理 冶金 热力学
网址
https://doi.org/10.1002/pssa.202400235
DOI
10.1002/pssa.202400235 doi
其它 期刊：physica status solidi (a)
作者：Christoph Zechner; Nikolas Zographos
出版日期：2024-07-19
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嘟嘟111 在 2025-08-30 16:00:36 发布，悬赏 10 积分
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