标题 |
Subthreshold swing improvement in MoS2 transistors by the negative-capacitance effect in a ferroelectric Al-doped-HfO2/HfO2 gate dielectric stack
铁电掺杂Al-HfO2/HfO2栅介质叠层中负电容效应对MoS2晶体管亚阈值摆幅的改善
相关领域
材料科学
光电子学
铁电性
电介质
栅极电介质
场效应晶体管
二硫化钼
负阻抗变换器
晶体管
原子层沉积
兴奋剂
纳米技术
图层(电子)
电压
电气工程
电压源
冶金
工程类
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Nanoscale 作者:Amirhasan Nourbakhsh; Ahmad Zubair; Sameer Joglekar; Mildred Dresselhaus; Tomás Palacios 出版日期:2017-04-20 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|