| 标题 |
 Chemical structure characteristics of flexible low-k SiCOH thin films etched by inductively coupled plasma-reactive ion etching process using FTIR and XPS spectra analysis 用红外光谱和X射线谱分析感应耦合等离子体反应离子蚀刻工艺蚀刻柔性低k SiCOH薄膜的化学结构特征
相关领域
X射线光电子能谱
感应耦合等离子体
蚀刻（微加工）
傅里叶变换红外光谱
反应离子刻蚀
分析化学（期刊）
离子
等离子体
薄膜
材料科学
等离子体刻蚀
化学
谱线
化学工程
纳米技术
图层（电子）
环境化学
物理
有机化学
量子力学
天文
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Microelectronic Engineering 作者：Thomas Poche; W. Wirth; Seonhee Jang 出版日期：2024-06-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
SYLH
yznfly
柯一一
眯眯眼的衬衫
cocolu
鸣笛
jenningseastera
coolkid
111
从容芮
热心市民小红花
iNk
shinysparrow
Lotus
aldehyde
dorianao
自信幻灵
eric888
8R60d8
pluto
皖公网安备34019202002308
