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Physical and chemical etching in plasmas
作者
J.E. Curran
出处
期刊:
Thin Solid Films
[Elsevier BV]
日期:1981-12-01
卷期号:86 (2-3): 101-116
被引量:12
标识
DOI:10.1016/0040-6090(81)90280-7
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