Caracterización de Películas Delgadas de Nitruro de Vanadio (VN) Depositadas por Magnetrón Sputtering D.C

espanolSe depositaron peliculas delgadas de Nitruro de Vanadio (VN) por la tecnica magnetron sputtering d.c. reactivo a partir de un blanco de vanadio (99.9%). Durante el crecimiento de las peliculas se vario la concentracion de N2 en la mezcla de gases Ar/N2 de la descarga. Las peliculas fueron depositadas sobre sustratos de Silicio [100] a una temperatura del sustrato de 400oC. La caracterizacion estructural, composicional y mecanica se realizo usando Difraccion de rayos-X (XRD), Analisis de Dispersion Elastica (EFA) y nanoindentacion, respectiva-mente. El patron de difraccion de rayos X, muestra las orientaciones cristalograficas [111], [200] y [220] las cuales son asociadas a la fase cubica del VN. La caracterizacion mediante EFA indica que cuando el porcentaje de N2 en la mezcla Ar/N2 varia en 10, 20 y 30 %, se encuentra en las muestras un contenido de nitrogeno entre 27 y 30 % y un alto contenido de oxigeno (.%30) en todas las peliculas. De otro lado, la dureza y el modulo de elasticidad fueron, para las tres peliculas de VN depositadas a las diferentes concentraciones de N2, de alrede-dor de 17 y 220 GPa respectivamente. EnglishVanadium Nitride (VN) thin films were grown by reactive d.c. magnetron sputtering technique, from a vanadium target (99.9%). During the films growth the N2 concentration was varied in the Ar/N2 gas mixture. Films were deposited onto sili-con [100] substrate at 400oC. Structural, compositional and mechanical characterization were performed by X-ray Diffrac-tion (XRD), Elastic Forward Analysis (EFA) and nanoindentation, respectively. X-ray diffraction patterns show the pres-ence of [111], [200] and [220] crystallographic orientations associated to the VN cubic phase. EFA analysis indicates that when the N2 content in the was varied in 10, 20 and 30%, is found that the nitrogen content in the films was between 27 y 30% and the oxygen content was higher (.%30) for the alls films. On the other hand, hardness and elastic modulus were around 17 y 220 GPa, respectively, for the films deposited at different N2 concentrations.