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Hard- and soft-breakdown modeling in <001> oriented β-Ga2O3 Schottky barrier diode

击穿电压 雪崩二极管 撞击电离 二极管 肖特基势垒 肖特基二极管 电离 随时间变化的栅氧化层击穿 雪崩击穿 材料科学 光电子学 化学 电压 电气工程 栅氧化层 离子 工程类 晶体管 有机化学
作者
Takaya Sugiura,Nobuhiko Nakano
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:132 (17) 被引量:11
标识
DOI:10.1063/5.0125609
摘要

Gallium oxide (Ga2O3) attracts considerable technological interest because of its high Baliga’s figure-of-merit and high breakdown voltages. As the models for the breakdown behavior of n-doped Ga2O3 that consider soft (barrier lowering) and hard (avalanche effect) breakdowns are still lacking, in this study, we model the breakdown operations in <001> oriented Schottky barrier diodes considering both the soft- and hard-breakdown phenomena. The completion of the impact ionization model of β-Ga2O3 in <001> orientation is proposed by determining the hole impact ionization coefficient, thereby reproducing hard breakdown operations. Moreover, a barrier lowering model is determined for reproducing soft breakdown operations. The outcomes of the proposed modeling investigation are expected to be crucial for predicting the reverse-biased operations of β-Ga2O3 in <001> orientation to facilitate further technological development and applications of Ga2O3.
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