Photoluminescence of Frank-type defects on the basal plane in 4H–SiC epilayers

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作者
Isaho Kamata,Xuan Zhang,Hidekazu Tsuchida
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:97 (17) 被引量:70
标识
DOI:10.1063/1.3499431
摘要

Frank-type defects on the basal plane in thick 4H–SiC epitaxial layers have been characterized by photoluminescence (PL) spectroscopy and a PL imaging microscopy. The PL emission wavelength of the three kinds of Frank-type defects were determined at ∼424, 457, and 488 nm at room temperature, respectively. The high-resolution PL imaging of the defects was obtained, and the PL emission at the Frank partial dislocations was confirmed in the near infrared region (>700 nm). Correspondence between the optical properties and the microscopic structures of the defects was clarified.

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