Stable Na Plating and Stripping Electrochemistry Promoted by In Situ Construction of an Alloy‐Based Sodiophilic Interphase

材料科学 合金 电化学 相间 剥离(纤维) 电镀(地质) 沉积(地质) 化学工程 电极 冶金 复合材料 化学 地质学 古生物学 物理化学 工程类 沉积物 生物 遗传学 地球物理学
作者
Shuai Tang,Yiyang Zhang,Xia‐Guang Zhang,Jun‐Tao Li,Xueyin Wang,Jiawei Yan,De‐Yin Wu,Mingsen Zheng,Quanfeng Dong,Bing‐Wei Mao
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:31 (16): e1807495-e1807495 被引量:210
标识
DOI:10.1002/adma.201807495
摘要

Sodium metal anodes are poor due to the reversibility of Na plating/stripping, which hinders their practical applications. A strategy to form a sodiophilic Au-Na alloy interphase on a Cu current collector, involving a sputtered Au thin layer, is shown to enable efficient Na plating/stripping for a certain period of time. Herein, electrochemical behaviors of Na plating on different substrates are explored, and it is revealed that the sodiophilic interphase can be achieved universally by in situ formation of M-Na (M = Au, Sn, and Sb) alloys during Na plating prior to Na bulk deposition in the initial cycle. Moreover, it is found that repetitive alloying-dealloying leads to falling-off of thin film sodiophilic materials and thus limits the lifespan of efficient Na cycling. Therefore, an approach is further developed by employing particles of sodiophilic materials combined with the control over the cutoff potential, which significantly improves the stability of Na plating/stripping process. Especially, the low-cost Cu@Sn-NPs and Cu@Sb-MPs composite current collectors allow Na plating and stripping to cycle for 2000 and 1700 times with the average efficiency of 99.9% at 2 mA cm-2 .
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