Ambient‐Stable 2D Dion–Jacobson Phase Tin Halide Perovskite Field‐Effect Transistors with Mobility over 1.6 Cm2 V−1 s−1

卤化物 材料科学 钙钛矿(结构) 场效应晶体管 相(物质) 结晶 电子迁移率 卤素 晶体管 光电子学 化学工程 无机化学 电气工程 冶金 烷基 化学 有机化学 电压 工程类
作者
Xincan Qiu,Jiangnan Xia,Yu Liu,Pingan Chen,Lanyu Huang,Huan Wei,Jiaqi Ding,Zhenqi Gong,Xi Zeng,Chengyuan Peng,Chen Chen,Xiao Wang,Lang Jiang,Lei Liao,Yuanyuan Hu
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:35 (44) 被引量:13
标识
DOI:10.1002/adma.202305648
摘要

Solution-processed metal halide perovskites hold immense potential for the advancement of next-generation field-effect transistors (FETs). However, the instability of perovskite-based transistors has impeded their progress and practical applications. Here, ambient-stable high-performance FETs based on 2D Dion-Jacobson phase tin halide perovskite BDASnI4 , which has high film quality and excellent electrical properties, are reported. The perovskite channels are established by engineering the film crystallization process via the employment of ammonium salt interlayers and the incorporation of NH4 SCN additives within the precursor solution. The refined FETs demonstrate field-effect hole mobilities up to 1.61 cm2 V-1 s-1 and an on/off ratio surpassing 106 . Moreover, the devices show impressive operational and environmental stability and retain their functional performance even after being exposed to ambient conditions with a temperature of 45 °C and humidity of 45% for over 150 h.
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