Structural Stability of Vicinal AlN(0001) and GaN(0001) Surfaces with Steps and Kinks under Metal–Organic Vapor-Phase Epitaxy Condition: A First-Principles Study

邻接 外延 材料科学 气相 相(物质) 金属 金属有机气相外延 结构稳定性 化学 结晶学 光电子学 纳米技术 冶金 热力学 图层(电子) 有机化学 物理 工程类 结构工程
作者
Toru Akiyama,Takahiro Kawamura
出处
期刊:Crystal Growth & Design [American Chemical Society]
卷期号:24 (14): 5906-5915 被引量:4
标识
DOI:10.1021/acs.cgd.4c00121
摘要

The structural stability of vicinal AlN(0001) and GaN(0001) surfaces with steps and kinks under metal-organic vapor-phase epitaxy (MOVPE) conditions is investigated on the basis of density functional calculations. The calculated surface energies and kink formation energies demonstrate that the step edges without kinks, in which N dangling bonds and N–H bonds appear, are stable compared to those with kinks over the wide range of Al and Ga chemicals for AlN and GaN surfaces, respectively. The stabilization of the surface with kinks is understood by considering the numbers of dangling bonds and N–H bonds that are generated/eliminated by the kinks. The analysis of electronic states caused by the steps and kinks is also carried out for their identification in future experiments. The results shed some insights for understanding the relationship between surface morphology and growth conditions during MOVPE of nitride semiconductors.
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