Impact of TiN post-treatment on metal insulator metal capacitor performances

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作者
A. Bajolet,J-P. Manceau,S. Bruyère,R. Clerc,M. Proust,Nicolas Gaillard,J-C. Giraudin,P. Delpech,L. Montès,G. Ghibaudo
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier]
卷期号:83 (11-12): 2189-2194 被引量:12
标识
DOI:10.1016/j.mee.2006.10.004

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