极紫外光刻
纳米技术
专区
多重图案
章节(排版)
平版印刷术
材料科学
计量学
节点(物理)
数码产品
工程类
工程物理
计算机科学
光电子学
物理
光学
电气工程
抵抗
图层(电子)
结构工程
操作系统
作者
Vivek Bakshi,Hakaru Mizoguchi,Ted Liang,Andrew Grenville,Jos Benschop
出处
期刊:Journal of Micro-nanolithography Mems and Moems
[SPIE]
日期:2017-12-27
卷期号:16 (04): 1-1
被引量:11
标识
DOI:10.1117/1.jmm.16.4.041001
摘要
The Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology (JM3) publishes peer-reviewed papers on the core enabling technologies that address the patterning needs of the electronics industry.
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI