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Stacked indium oxide/zinc oxide heterostructures as semiconductors in thin film transistor devices: a case study using atomic layer deposition

材料科学 铟 图层（电子） 异质结 原子层沉积 薄膜晶体管 光电子学 锌 氧化物 薄膜 原子层外延 晶体管 半导体 沉积（地质） 氧化物薄膜晶体管 纳米技术 冶金 电气工程 工程类 古生物学 电压 生物 沉积物
作者
Shawn Sanctis,Jan Krausmann,Conrad Guhl,Jörg J. Schneider
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [Royal Society of Chemistry]
日期：2017-11-06 卷期号：6 (3): 464-472 被引量：45
标识
DOI：10.1039/c7tc03724d
摘要
Multilayer indium/zinc oxide thin films show high performance in transistor device performance depending on their layer sequence and thickness.
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