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Dynamic deformation modeling for the interfaces of growth, etching, and deposition under switching flow in TSSG-SiC growth
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作者
Xin Liu,
Zhicheng Guan,
Tomoaki Furusho,
Kentaro Kutsukake,
Shunta Harada,
Toru Ujihara
出处
期刊：
CrystEngComm
[Royal Society of Chemistry]
日期：2025-01-01
卷期号：27 (26): 4539-4546
被引量：5
链接
rsc.org
doi.org
标识
DOI：10.1039/d5ce00314h
摘要
A flatter growth interface and a more acceptable growth rate can be achieved with the imbalanced switching flow for long-term SiC crystal growth.
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