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Tailoring annealing duration of gallium oxide film deposited by electron beam evaporation

材料科学 退火(玻璃) 电子束物理气相沉积 氧化镓 氧化物 阴极射线 蒸发 电子 冶金 纳米技术 工程物理 薄膜 工程类 物理 热力学 量子力学
作者
A. Muhammad,S.S. Ng,Hock Jin Quah,Momin S.M. Abutawahina
出处
期刊:Ceramics International [Elsevier BV]
卷期号:51 (20): 32240-32250 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.ceramint.2025.04.412

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