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Structural optimization of HfTiSiO high-k gate dielectrics by utilizing in-situ PVD-based fabrication method
作者
Hiroaki Arimura,
Shinya Horie,
Yudai Oku,
T. Minami,
Naomu Kitano,
Motomu Kosuda,
Takuji Hosoi,
Takayoshi Shimura,
Heiji Watanabe
出处
期刊：
Applied Surface Science
[Elsevier BV]
日期：2008-03-21
卷期号：254 (19): 6119-6122
被引量：1
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2008.02.133
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