The influence of long additional thermal treatment of controlled porous glasses on the structuralization of their silica network

多孔性 方石英 石英 材料科学 结晶 热处理 化学工程 矿物学 多孔玻璃 扩散 复合材料 化学 热力学 有机化学 物理 工程类
作者
Andrzej L. Dawidowicz,S. Pikus
出处
期刊:Journal of thermal analysis 卷期号:32 (2): 409-415 被引量:7
标识
DOI:10.1007/bf01912693
摘要

The materials used as sorbents in gas and liquid chromatography include controlled porosity glasses (CPG). The heating of CPG in the temperature range 400–800 °C leads not only to dehydroxylation of their surface, but also to a diffusion of the boron atoms (and a smaller amount of sodium atoms) remaining in the silica network of the CPG towards the glass surface. Simultaneously, crystallization of the silica network of the CPG takes place. The present paper deals with the changes of the crystallographic structures in thermally treated glasses which differ in their mean pore diameters. The results show not only the existence of cristobalite in the siliceous lattice of the heated glasses, but also the presence of α-quartz, the very symmetrical structure of SiO2.

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