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Surface Roughness Investigation of Thin SiO2 Films Deposited from N2O and SiH4
薄膜
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作者
V.H.C. Watt,
Mansour Moinpour,
R. Sadjad,
Weixue Lu,
G. Neubauer,
R.W. Bower
出处
期刊：
MRS Proceedings
[Cambridge University Press]
日期：1994-01-01
卷期号：355
被引量：1
标识
DOI：10.1557/proc-355-377
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