Electrical Characteristics of Metal-Insulator-Semiconductor Structure Using a-C:H Films Fabricated by Dual Magnetron Sputtering

材料科学 溅射沉积 半导体 光电子学 绝缘体(电) 腔磁控管 金属 溅射 对偶(语法数字) 冶金 纳米技术 薄膜 文学类 艺术
作者
Yong Seob Park,Nam‐Hoon Kim,Soohyun Hwang,Jaehyeong Lee
出处
期刊:Science of Advanced Materials [American Scientific Publishers]
卷期号:10 (3): 433-437
标识
DOI:10.1166/sam.2018.3042
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