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Plasma etching of gently sloped mesa with controllable sidewall curvature for enhancing junction termination breakdown voltage of GCT cells
材料科学
梅萨
蚀刻（微加工）
曲率
等离子体
光电子学
击穿电压
电压
复合材料
等离子体刻蚀
电击穿
高压
光学
电极
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雕刻
作者
Ningfei Sun,
Rui Liu,
Xiaoguang Wei,
Ling Li (38566),
Caiping Wan,
Yaohua Wang,
Shiyu Ji,
焦倩倩,
Mingchao Gao,
Liang Wang,
Ruifeng Yue
出处
期刊：
Materials Science in Semiconductor Processing
[Elsevier BV]
日期：2026-06-05
卷期号：214: 110843-110843
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2026.110843
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