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Effects of crystal planes on topography evolution of silicon surface during nanoscratch-induced selective etching

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作者
Lei Wu,Peng Chen,Liang Deng,Pei Zhang,Bingjun Yu,Linmao Qian
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2020-12-06 卷期号：124: 105606-105606 被引量：15
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2020.105606
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