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作者
Qiufa Luo,Jing Lu,Feng Jiang,Jia‐Ming Lin,Zige Tian
出处
期刊:Nanoscale
[Royal Society of Chemistry]
日期:2023-01-01
卷期号:15 (38): 15675-15685
被引量:22
摘要
Material removal mechanisms of abrasives for SiC and sapphire in nanoscale polishing.
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