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Positive charging of thermal SiO2 layers: hole trapping versus proton trapping

作者
V. V. Afanas’ev,G.J. Adriaenssens,A. Stesmans
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:59 (1-4): 85-88 被引量:17
标识
DOI:10.1016/s0167-9317(01)00651-7

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