VGF growth of high quality InAs single crystals with low dislocation density

单晶 位错 材料科学 Crystal(编程语言) 结晶学 晶体生长 半最大全宽 凝聚态物理 光电子学 化学 物理 计算机科学 程序设计语言
作者
Jun Yang,Wei Lü,Duan Manlong,Hongwei Xie,Guiying Shen,Jingmin Liu,Zhiyuan Dong,Youwen Zhao
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier BV]
卷期号:531: 125350-125350 被引量:5
标识
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2019.125350
摘要

In this work, we report the results of InAs single crystals grown by vertical temperature gradient freezing method (VGF) which has low temperature gradient during the growth process. InAs single crystals with (1 0 0) and (1 1 1) orientation, diameter up to 4 in. have been grown by VGF. Twin-free single crystal ingots with length around 150–200 mm have been obtained reproducibly. Etch pit dislocation density (EPD) of the VGF-InAs single crystals is 1000–3000 cm−2. As-expected, X-ray rocking curve of the VGF-InAs single crystal exhibits a narrower FWHM than LEC-InAs single crystal, indicating a better lattice perfection. In contrast, undoped n type VGF-InAs single crystal has a better electrical property, such as higher electron mobility, lower free electron concentration.

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