High-uniformity and high-performance waveguide Ge photodetectors for the O and C bands

光学 光电探测器 材料科学 波导管 光电子学 物理
作者
Xinyu Li,Qiang Xu,Ruogu Song,Jinyu Wang,Shuxiao Wang,Wencheng Yue,Wei Wang,Yan Cai,Mingbin Yu
出处
期刊:Applied Optics [Optica Publishing Group]
卷期号:63 (8): 2101-2101
标识
DOI:10.1364/ao.518425
摘要

This paper presents the test results for high-performance and high-uniformity waveguide silicon-based germanium (Ge) photodetectors (PDs) for the O band and C band. Both wafer-scale and chip-scale test results are provided. The fabricated lateral p − i − n (LPIN) PDs exhibit a responsivity of 0.97 A/W at a bias of −2V, a bandwidth of 60 GHz, and a no-return-to-zero (NRZ) eye diagram rate of 53.125 Gb/s. Additionally, an average dark current of 22.4 nA was obtained in the vertical p − i − n (VPIN) PDs at −2V by optimizing the doping process. The device can reach an average responsivity of 0.9 A/W in the O band. The standard deviation in a wafer with a dark current and responsivity is as low as 7.77 nA and 0.03 A/W at −2V, respectively.
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