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Dependence of the Characteristics of Mo Films on Sputter Conditions

作者
Jeff L. Alleman,Hamda A. Al-Thani,Rommel N. Noufi,Helio Moutinho,M. M. Al‐Jassim,Falah S. Hasoon
出处
期刊:U.S. Department of Energy Office of Scientific and Technical Information - OSTI OAI [Office of Scientific and Technical Information]
被引量:9
摘要

The residual stress, resistance, orientation, and microstructure of sputtered Mo films were studied as a function of varied-deposition power and pressure.

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