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Influence of post-deposition annealing on the novel alloyed SnSxO1-x semiconductor in p-type thin-film transistors

材料科学薄膜晶体管退火（玻璃）光电子学薄膜半导体脉冲激光沉积晶体管纳米技术冶金图层（电子）电压电气工程工程类

作者

Tao Zhang,Weihao Wang,Yunze Liu,Fengzhi Wang,Xinhua Pan,Bin Lu,Zhizhen Ye

出处

期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2022-08-13 卷期号：151: 107037-107037 被引量：2

标识

DOI：10.1016/j.mssp.2022.107037

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